Poly[methlyl methacrylate-co-methacrylic acid] for UV-sensitive aqueous-base developable lithographic plate
Poly[methlyl methacrylate-co-methacrylic acid] for UV-sensitive aqueous-base developable lithographic plate
ชื่อเรื่อง :
Poly[methlyl methacrylate-co-methacrylic acid] for UV-sensitive aqueous-base developable lithographic plate
ปี :
2000
หมวด :
วิทยานิพนธ์
ผู้แต่ง :
Suteera Tessiri
ผู้แต่งร่วม :
-

Suteera Tessiri. 2000. Poly[methlyl methacrylate-co-methacrylic acid] for UV-sensitive aqueous-base developable lithographic plate. Field of Study Petrochemistry and Polymer Science, Chulalongkorn University;

Suteera Tessiri. (2000) Poly[methlyl methacrylate-co-methacrylic acid] for UV-sensitive aqueous-base developable lithographic plate . Chulalongkorn University/Bangkok.

Suteera Tessiri. Poly[methlyl methacrylate-co-methacrylic acid] for UV-sensitive aqueous-base developable lithographic plate. . Bangkok:Chulalongkorn University, 2000.

Suteera Tessiri. (2000) Poly[methlyl methacrylate-co-methacrylic acid] for UV-sensitive aqueous-base developable lithographic plate . Chulalongkorn University/Bangkok.

เอกสารดาวน์โหลด
- ไม่พบเอกสารดิจิตอล -
จำนวนดาวน์โหลด
Abstract :
 0
Full-Text :
 0
Digital File :
 0
จำนวนดาวน์โหลดเพื่อใช้ประโยชน์
นโยบาย :
 0
วิชาการ :
 0
สังคม/ชุมชน :
 0
พาณิชย์/อุตสาหกรรม :
 0