ชลิดา คูหาเรือง. 2547. กระบวนการโฟโตลิโธกราฟีสำหรับสร้างลวดลายขนาด 5 ไมครอน บนซิลิคอนไดออกไซด์และอะลูมิเนียม. สาขาวิชาวิศวกรรมอิเล็กทรอนิกส์, สถาบันเทคโนโลยีพระจอมเกล้าเจ้าคุณทหารลาดกระบัง; DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMITL.the.2004.85

ชลิดา คูหาเรือง. กระบวนการโฟโตลิโธกราฟีสำหรับสร้างลวดลายขนาด 5 ไมครอน บนซิลิคอนไดออกไซด์และอะลูมิเนียม. . กรุงเทพฯ:สถาบันเทคโนโลยีพระจอมเกล้าเจ้าคุณทหารลาดกระบัง, 2547. DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMITL.the.2004.85

ชลิดา คูหาเรือง. (2547) กระบวนการโฟโตลิโธกราฟีสำหรับสร้างลวดลายขนาด 5 ไมครอน บนซิลิคอนไดออกไซด์และอะลูมิเนียม . สถาบันเทคโนโลยีพระจอมเกล้าเจ้าคุณทหารลาดกระบัง/กรุงเทพฯ. DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMITL.the.2004.85