ความคล่องตัวของอิเล็กตรอนในชั้นฟิล์มบางของ n-GaAs ที่มี QDs ฝังตัวอยู่ข้างใน
ความคล่องตัวของอิเล็กตรอนในชั้นฟิล์มบางของ n-GaAs ที่มี QDs ฝังตัวอยู่ข้างใน
ชื่อเรื่อง :
ความคล่องตัวของอิเล็กตรอนในชั้นฟิล์มบางของ n-GaAs ที่มี QDs ฝังตัวอยู่ข้างใน
ปี :
2547
หมวด :
วิทยานิพนธ์
ผู้แต่ง :
ธีรศักดิ์ ปัญญาวานิชกุล
ผู้แต่งร่วม :
-

ธีรศักดิ์ ปัญญาวานิชกุล. 2547. ความคล่องตัวของอิเล็กตรอนในชั้นฟิล์มบางของ n-GaAs ที่มี QDs ฝังตัวอยู่ข้างใน. สาขาวิชาวิศวกรรมไฟฟ้า, จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย;

ธีรศักดิ์ ปัญญาวานิชกุล. (2547) ความคล่องตัวของอิเล็กตรอนในชั้นฟิล์มบางของ n-GaAs ที่มี QDs ฝังตัวอยู่ข้างใน . จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย/กรุงเทพฯ.

ธีรศักดิ์ ปัญญาวานิชกุล. ความคล่องตัวของอิเล็กตรอนในชั้นฟิล์มบางของ n-GaAs ที่มี QDs ฝังตัวอยู่ข้างใน. . กรุงเทพฯ:จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย, 2547.

ธีรศักดิ์ ปัญญาวานิชกุล. (2547) ความคล่องตัวของอิเล็กตรอนในชั้นฟิล์มบางของ n-GaAs ที่มี QDs ฝังตัวอยู่ข้างใน . จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย/กรุงเทพฯ.

เอกสารดาวน์โหลด
Abstract :
จำนวนดาวน์โหลด
Abstract :
 0
Full-Text :
 0
Digital File :
 0
จำนวนดาวน์โหลดเพื่อใช้ประโยชน์
นโยบาย :
 0
วิชาการ :
 0
สังคม/ชุมชน :
 0
พาณิชย์/อุตสาหกรรม :
 0