จรินทร์ยา ยศธิสุทธิ์. 2551. การศึกษาการเคลือบฟิล์มบาง ของ Ta2O5 สำหรับใช้เป็นตัวนำไอออนชนิดของแข็งในอุปกรณ์อิเล็กโตรโครมิค. , มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี; DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMUTT.the.2008.95
จรินทร์ยา ยศธิสุทธิ์. (2551) การศึกษาการเคลือบฟิล์มบาง ของ Ta2O5 สำหรับใช้เป็นตัวนำไอออนชนิดของแข็งในอุปกรณ์อิเล็กโตรโครมิค . มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี/กรุงเทพฯ. DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMUTT.the.2008.95
จรินทร์ยา ยศธิสุทธิ์. การศึกษาการเคลือบฟิล์มบาง ของ Ta2O5 สำหรับใช้เป็นตัวนำไอออนชนิดของแข็งในอุปกรณ์อิเล็กโตรโครมิค. . กรุงเทพฯ:มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี, 2551. DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMUTT.the.2008.95
จรินทร์ยา ยศธิสุทธิ์. (2551) การศึกษาการเคลือบฟิล์มบาง ของ Ta2O5 สำหรับใช้เป็นตัวนำไอออนชนิดของแข็งในอุปกรณ์อิเล็กโตรโครมิค . มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี/กรุงเทพฯ. DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMUTT.the.2008.95