Deposition of titanium aluminium nitride thin film by reactive unbalanced magnetron sputtering method
Deposition of titanium aluminium nitride thin film by reactive unbalanced magnetron sputtering method
ชื่อเรื่อง :
Deposition of titanium aluminium nitride thin film by reactive unbalanced magnetron sputtering method
ปี :
2010
หมวด :
วิทยานิพนธ์
ผู้แต่ง :
Adisorn Buranawong
ผู้แต่งร่วม :
-
รหัสดีโอไอ :

Adisorn Buranawong. 2010. Deposition of titanium aluminium nitride thin film by reactive unbalanced magnetron sputtering method. Department of Physics, King Mongkut's University of Technology Thonburi; DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMUTT.the.2010.16

Adisorn Buranawong. (2010) Deposition of titanium aluminium nitride thin film by reactive unbalanced magnetron sputtering method . King Mongkut's University of Technology Thonburi/Bangkok. DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMUTT.the.2010.16

Adisorn Buranawong. Deposition of titanium aluminium nitride thin film by reactive unbalanced magnetron sputtering method. . Bangkok:King Mongkut's University of Technology Thonburi, 2010. DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMUTT.the.2010.16

Adisorn Buranawong. (2010) Deposition of titanium aluminium nitride thin film by reactive unbalanced magnetron sputtering method . King Mongkut's University of Technology Thonburi/Bangkok. DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMUTT.the.2010.16

เอกสารดาวน์โหลด
Full-Text :
จำนวนดาวน์โหลด
Abstract :
 0
Full-Text :
 0
Digital File :
 0
จำนวนดาวน์โหลดเพื่อใช้ประโยชน์
นโยบาย :
 0
วิชาการ :
 0
สังคม/ชุมชน :
 0
พาณิชย์/อุตสาหกรรม :
 0