การสร้างไดโอดเลเซอร์จากวัสดุ GaAs-GaAlAs แบบ buried heterostructure ด้วยวิธี liquid-phase epitaxy (LPE)
การสร้างไดโอดเลเซอร์จากวัสดุ GaAs-GaAlAs แบบ buried heterostructure ด้วยวิธี liquid-phase epitaxy (LPE)
ชื่อเรื่อง :
การสร้างไดโอดเลเซอร์จากวัสดุ GaAs-GaAlAs แบบ buried heterostructure ด้วยวิธี liquid-phase epitaxy (LPE)
ปี :
2540
หมวด :
รายงานการวิจัย
ผู้แต่ง :
สมชัย รัตนธรรมพันธ์
ผู้แต่งร่วม :
ชุมพล อันตรเสน, Somchai Ratanathammaphan

สมชัย รัตนธรรมพันธ์,ชุมพล อันตรเสน. 2540. การสร้างไดโอดเลเซอร์จากวัสดุ GaAs-GaAlAs แบบ buried heterostructure ด้วยวิธี liquid-phase epitaxy (LPE). กรุงเทพฯ:จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย;

สมชัย รัตนธรรมพันธ์,ชุมพล อันตรเสน. (2540) การสร้างไดโอดเลเซอร์จากวัสดุ GaAs-GaAlAs แบบ buried heterostructure ด้วยวิธี liquid-phase epitaxy (LPE). จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย:กรุงเทพฯ.

สมชัย รัตนธรรมพันธ์,ชุมพล อันตรเสน. การสร้างไดโอดเลเซอร์จากวัสดุ GaAs-GaAlAs แบบ buried heterostructure ด้วยวิธี liquid-phase epitaxy (LPE). กรุงเทพฯ:จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย, 2540. Print.

สมชัย รัตนธรรมพันธ์,ชุมพล อันตรเสน. (2540) การสร้างไดโอดเลเซอร์จากวัสดุ GaAs-GaAlAs แบบ buried heterostructure ด้วยวิธี liquid-phase epitaxy (LPE). จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย:กรุงเทพฯ.

เอกสารดาวน์โหลด
- ไม่พบเอกสารดิจิตอล -
จำนวนดาวน์โหลด
Abstract :
 0
Full-Text :
 0
Digital File :
 0
จำนวนดาวน์โหลดเพื่อใช้ประโยชน์
นโยบาย :
 0
วิชาการ :
 0
สังคม/ชุมชน :
 0
พาณิชย์/อุตสาหกรรม :
 0