รัตนพันธุ์ นพเก้า. 2551. การปรับตั้งพารามิเตอร์ที่เหมาะสม ในกระบวนการเคลือบฟิล์มบนแผ่นเวเฟอร์. , มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี; DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMUTT.the.2008.287
รัตนพันธุ์ นพเก้า. (2551) การปรับตั้งพารามิเตอร์ที่เหมาะสม ในกระบวนการเคลือบฟิล์มบนแผ่นเวเฟอร์ . มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี/กรุงเทพฯ. DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMUTT.the.2008.287
รัตนพันธุ์ นพเก้า. การปรับตั้งพารามิเตอร์ที่เหมาะสม ในกระบวนการเคลือบฟิล์มบนแผ่นเวเฟอร์. . กรุงเทพฯ:มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี, 2551. DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMUTT.the.2008.287
รัตนพันธุ์ นพเก้า. (2551) การปรับตั้งพารามิเตอร์ที่เหมาะสม ในกระบวนการเคลือบฟิล์มบนแผ่นเวเฟอร์ . มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี/กรุงเทพฯ. DOI : https://doi.nrct.go.th/ListDoi/listDetail?Resolve_DOI=10.14457/KMUTT.the.2008.287